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본 연구에서는 boron 화합물인 BSH(Boron Sulfhydryl Hydride)의 농도와 중성자 및 감마선 방사선 조사선량에 따른 plasmid DNA의 손상 정도를 관찰하였다. Plasmid는 pBR 322(2870 bp)와 φX174 RF DNA(5386 bp)를 사용하였고 조사 후 DNA의 손상 정도는 agarose gel 전기영동 상에서 관찰하였다. 중성자 조사에서는 plasmid DNA의 손상 정도는 BSH의 농도 및 조사 선량이 증가함에 따라 증가하였으나 감마선 조사에서는 조사하지 않은 대조군과 큰 차이를 나타내지 않았다. Plasmid DNA의 손상 양상은 BSH 존재시 중성자 및 감마선 조사에서 다소 다름을 알 수 있었다.


In this study, the extent of plasmid DNA damage was observed according to concentration of BSH(Boron Sulfhydryl Hydride) and irradiation doses of neutron and γ-ray. The plasmid used was both pBR 322 (2870 bp) and φX174 RF(5386 bp) DNA. Plasmid DNA damage by irradiation in the presence of BSH was analyzed by agarose gel electrophoresis. In the neutron experiment, DNA damage of both plasmid DNAs was increased according to increasing the concentration of BSH and neutron doses. But in the γ- ray experiment, there appeared no dose dependency as compared to the neutron experiment. The extent of the plasmid DNA damage in the presence of BSH was somewhat different according to irradiation by neutron or γ- ray.