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Run-to-run control of inductively coupled C2F6 plasma etching of SiO2: Multivariable controller design and numerical application
약어 : Korean J. Chem. Eng.
2006, vol.23, no.2, 통권 101호 pp. 199-202 (4 pages)
UCI : G704-000406.2006.23.2.025
발행기관 : 한국화학공학회
1서강대학교
2고려대학교
3Sogang University
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