Closed-loop identification of wafer temperature dynamics in a rapid thermal process
약어 : Korean J. Chem. Eng.
2006, vol.23, no.2, 통권 101호 pp. 171-175 (5 pages)
UCI : G704-000406.2006.23.2.027
발행기관 : 한국화학공학회
1경북대학교
2University of Texas
3University of Texas
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