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Cu-RDE를 이용하여 borate 완충용액에서 Cu의 부식과 부동화 과정의 반응구조를 연구하였다. 혼합 전위(mixed potential) 이론을 도입하여 대류확산의 조건(convective diffusion)에서 회전속도의 증가에 따라 부식전위가 양의 방향 으로 증가하는 모형을 발견하였다. 산화에 의한 생성물은 중간물질 Cu(OH)ads를 거쳐, 부식, 부동화의 시작, 중간, 마 지막 등의 영역에서 각각 Cu(OH)2 -, Cu2O, Cu(OH)2, CuO인 것으로 제안하였다


The corrosion and passivation of copper was investigated with the copper rotating disk electrode (Cu-RDE) in borate buffer solution. It has been observed with the mixed potential theory that the corrosion potential for the rotation rate increase under the convective diffusion condition was increased. It was suggested that the chemical intermediates and product for the copper oxidation were Cu(OH)ads, Cu(OH)2 -, Cu2O, Cu(OH)2, and CuO.