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Property of Cobalt Nickel Silicide by Thermal Annealing of Co/Ni Bilayer on a Silicon Substrate
약어 : Met. Mater. -Int.
2006, vol.12, no.2, pp. 189-192 (4 pages)
UCI : G704-000797.2006.12.2.011
발행기관 : 대한금속·재료학회
1서울시립대학교
2서울시립대학교
3동명대학교
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